«Estamos trabajando con nuestros clientes para desarrollar tecnologías que se adentran cuatro generaciones en el futuro». Esta declaración de Nobuto Doi, vicepresidente de Tokyo Electron, es toda una declaración de intenciones. Cuando hablamos de la industria de los equipos de fotolitografía la compañía neerlandesa ASML acapara todo el protagonismo. Y lo merece si tenemos presente que actualmente es la única que ha desarrollado máquinas de litografía de ultravioleta extremo (UVE) y su más reciente y avanzada iteración, los equipos UVE de alta apertura.
Sin embargo, hay varias empresas japonesas que también tienen un peso importante en el mercado de los equipos de litografía. Nikon y Canon son dos de ellas (esta última ya tiene preparada la revisión de su máquina de litografía de nanoimpresión), pero la que lleva la voz cantante es Tokyo Electron. De hecho, he tenido la oportunidad de visitar las fábricas de semiconductores que tiene Intel en Kiryat Gat (Israel) y Penang (Malasia), y en ellas los equipos de ASML y Tokyo Electron trabajan codo con codo.
Tokyo Electron lidera en equipos de plasma y de deposición de obleas
El Gobierno japonés está decidido a conseguir que Japón se mida de tú a tú con las principales potencias de la industria de los semiconductores. Y desde luego no es una ambición inalcanzable. De hecho, Tokyo Electron es una pieza indispensable en su plan. Actualmente Japón está invirtiendo más dinero en su sector de los circuitos integrados que EEUU, Alemania, Francia o Reino Unido. No en términos de valor neto, pero su esfuerzo es mayor si ponderamos la inversión de estos países sobre su producto interior bruto (PIB).
EEUU dedica el 0,21% de su PIB a su industria de los semiconductores, y Alemania el 0,41%. Francia, según Nikkei Asia, el 0,2%, y, por último, Reino Unido el 0,04%. La diferencia es muy significativa y pone encima de la mesa el esfuerzo que está haciendo Japón con un 0,71% de su PIB. Tokyo Electron es una de las compañías japonesas que se están viendo respaldadas por las subvenciones aprobadas por el Gobierno japonés. De hecho, está construyendo varios edificios en la prefectura de Miyagi que presumiblemente estarán terminados en 2025.
El proyecto más ambicioso que abordará en estas instalaciones consistirá en el diseño y la fabricación de unos equipos de grabado de obleas mediante plasma muy avanzados. Son, precisamente, las máquinas de las que habla Nobuto Doi en su declaración. Estos equipos están involucrados en la definición del patrón que posteriormente va a ser transferido a la oblea. La empresa japonesa Hitachi también tiene máquinas de grabado de obleas por plasma, pero la voz cantante en este mercado en particular la tiene Tokyo Electron.
Al parecer los ingenieros de esta última compañía están trabajando codo con codo con sus clientes para desarrollar soluciones que, según Doi, se posicionarán cuatro generaciones por delante. No obstante, su plan va más allá de las instalaciones de la prefectura de Miyagi. Y es que Tokyo Electron también está construyendo una nueva planta en Oshu, en la prefectura de Iwate, que estará destinada a la fabricación de equipos avanzados de deposición de obleas y a la logística. De algo podemos estar seguros: Tokyo Electron es la ASML japonesa. Sin ella el ambicioso plan pergeñado por el Gobierno nipón para su industria de los semiconductores no sería viable.
